IC 前道光刻機技術最為複雜，光刻製程是 IC 製造的核心環節也是佔用時間比最大的步驟，光刻機是目前晶圓製造產線中成本最高的半導體設備。 根據格羅方德的數據顯示，光刻設備約佔晶圓生產線設備成本 27%，光刻製程占晶片製造時間 40%-50%。 光刻設備從光源（從最初的 g-Line, i-Line 發展到 EUV）、曝光方式（從接觸式到步進式，從乾式投影到浸沒式投影）不斷進行著改進。 光刻技術指利用光學-化學反應原理，將電路圖轉移到晶圓表面的製程技術，光刻機是光刻工序中的一種投影曝光系統。 在製造過程中，通過投射光束，穿過掩膜板和光學鏡片照射塗敷在基底上的光敏性光刻膠，經過顯影后可以將電路圖最終轉移到硅晶圓上。
5.启尔机电：2019年12月，启尔机电浸液系统产品研制与能力建设通过02专项CDR里程碑评审，成为继ASML、尼康后全球第三家掌握这一技术的公司。 3.北京国望光学：目前已经收购长春国科精密，事实上国望光学核心研发团队就全部来自于国科精密，国科精密则源于中科院长春光学精密机械与物理研究所、上海光学精密机械研究所为承担02专项“曝光光学系统”组建的研究团队，长春光机所负责物镜系统，上海光机所负责照明系统。 现在中科院、上海光机所和长春国科精密一起合作研发，进度未知。 据中国方正证券的一份研究报告披露，“在02专项光刻机项目二期中，设定的时间为2020年12月验收193纳米ArF浸入式DUV光刻机，其制程工艺为28纳米”，即网络上流传的28纳米光刻机（这个说法当然不准确）。 ASML 周三公布了创纪录的收入和利润，尽管个人电脑和智能手机销售放缓，但对芯片生产设备的需求创下纪录，2022年第三季度，ASML实现了净销售额58亿欧元，毛利率为51.8%，净利润达17亿欧元。 今年第三季度新增订单金额创历史新高，达到89亿欧元，销售了80台新的光刻系统和6台二手光刻机，包括12台EUV设备(与第二季度一致)和74台DUV机器(少于第二季度的79台)。
上海微電子28nm光刻機: 科技要闻
最近，在芯片行业里，全球各大芯片厂商一直都在研发设计新的芯片，各家厂商的芯片不停更新迭代，这就导致了芯片包含的技术越来越先进，而想要制造出如此先进的芯片，就需要用到芯片生产最核心的设备技术——光刻机。 资料显示，光刻工艺是芯片制造过程中占用时间比最大的步骤，约占芯片制造总时长的40%-50%。 同时，光刻机也是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备，约占晶圆生产线设备总成本的27%。 目前最先进的 EUV 设备在2018 年单台平均售价高达 1.04 亿欧元。 2.长春国科精密：2018年通过了面向90nm节点的NA 0.75级投影光刻曝光光学系统验收，目前正向28纳米节点的光学系统攻关，当时预计2021年可以取得突破，现在也没有什么最新消息。
也就是說，通過上面的這則新聞，我們基本可以確認，今年科益虹源承擔的「02重大專項」研發的浸沒光刻光源就將與上海微電子共同完成28nm國產光刻機的集成。 上海微電子28nm光刻機 在技術上，上海微電子的IC前道光刻機與國際先進水平差距仍較大。 上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機中性能最好的最高可實現 90nm 製程節點，ASML 的 EUV 3400B 製程節點可達到 5nm。 這也使得在IC前道光刻機市場，國產化率較低，中國的IC前道光刻機市場主要被ASML、Nikon 和Canon 瓜分。 并且表示,这台设备能够用于制造48nm-28nm芯,另外还表示到2023年,上海微电子的光刻技术,将用于制造20nm的5G芯片。 也许这个事儿是真的，但为什么华为就对人才有那么大的吸引力？
上海微電子28nm光刻機: 国产“28nm光刻机”又跳票？到底卡在了哪里？
显然，富士康在青岛的半导体封测项目引入的“光刻机”，并不是什么“28nm光刻机”，因为目前上海微电子量产的最先进的仍是只能用于90nm左右的芯片的制造。 而且在此前国内很多媒体的报道当中都有明确指出，富士康在青岛的半导体封测项目引入的是上海微电子的“封装光刻机”。 总的来说，就已有的信息来看，国产“28nm光刻机”几大关键的部件的似乎并未完全搞定，也没有全部通过02专项的验收，所以作为主要负责“28nm光刻机”系统总成的上海微电子自然也难以在今年年底实现“28nm光刻机”项目验收和交付。 另外前期对于项目进展预期过于乐观、研发投入相对不足，以及各个关键部件的研发完全独立、缺乏紧密协作，也可能是导致项目进度未能如期的一大原因。 在193nm浸没式光刻机所需光源系统方面，主要由中科院光电研究院负责准分子激光光源系统研发，由北京科益虹源负责产业转化。
- ”此外，ASML称正在继续评估和关注美国新颁布的出口管制条例，初步评估认为，新的限制并未修订ASML从荷兰运出光刻设备的规则，我们预计其对ASML 2023年整体出货计划的直接影响有限。
- IPhone 15全面升级，Ultra版本或超万元起售据多方消息，明年苹果将在手机产品线上进行大范围的升级，如今的Pro版将不再是最高端版本，而是将推出一个全新产品iPhone 15 Ultra。
- 荷兰阿斯麦是全球唯一一家高端光刻机制造商，每年仅出20台左右高端设备，每一台都被台积电和三星等大型芯片代工厂抢破了头。
- 国内也有生产光刻机的公司，比如上海微电子装备，但技术水平远远落后于ASML。
哗啦啦的人民币，朋友圈里卖设备的大牛们奔走相告，买个炉子、光刻机、清洗槽吧。 不得不承认，目前国内半导体设备的产线占有率还是很低，更多的上线靠的是价格，赔钱赚吆喝。 虽然，这个28nm光刻机与ASML目前最先进的5nm EUV光刻机相比，仍有着很大的差距，但是对于中国的半导体产业以及上海微电子自身来说都是意义非凡，而且通过多次曝光，甚至可支持7nm芯片。 光刻机还可以用于面板（FPD）领域，国内 FPD 产业处于高速发展阶段，市场发展空间巨大。 随着国内 FPD 生产线的建设和陆续投产及下游电子设备应用多元化发展，我国 FPD 产业步入快速发展时期，产能持续增长。
上海微電子28nm光刻機: 上海微电子明年量产28nm光刻机？先别急着激动
其中，600系列光刻机最新型号SSA600/20的分辨率为90nm，而500系列光刻机的最小分辨率为1μm。 据EDN小编了解，事件起源于11月26日上午富士康微信公众号发布的一则《富士康首座晶圆级封测厂在青岛西海岸新区投产》。 该文称伴随着首条晶圆级封装测试生产线顺利启动，项目正式进入生产运营阶段。 富士康表示，该项目是富士康科技集团首座晶圆级封测厂，是业界前沿的工业 4.0 智能型无人化灯塔工厂，拥有全自动化搬运、智慧化生产与电子分析等高端系统，预计达产后月封测晶圆芯片约 3 万片。 在面板光刻机市场，上海微电子也已经实现首台 4.5 代 TFT 投影光刻机进入用户生产线。 要想打破日本尼康和佳能所垄断的 FPD 光刻机市场格局，仍需要时间。
随后 EUV 光刻机的交付时间，便顺延到了 2020 年年中交付。 一台光刻机包含数万的零配件和多项顶尖技术，这决定了光刻机是一个需要全球合作才能成功的工业产品。 光刻机需要体积小、功率高而稳定的光源，ASML 的顶尖设备， 使用波长短的极紫外光，光学系统极复杂 目前，世界上几个比较大型的光刻机生产厂商，除了荷兰阿斯麦 ASML，还有日本的尼康和佳能，以及中国的上海微电子，做的其实都是光刻机的组装工作。
上海微電子28nm光刻機: 光刻机能进口了！全球最大制造商ASML回应，卖给中国DUV光刻机无需美国许可
目前的前道光刻机市场，基本上由荷兰ASML和日本的尼康、佳能这三家垄断，市场份额占到99%。 尤其是ASML，市场份额就一直保持在60%以上，并且也只有它能够生产高端EUV光刻机。 上海微電子28nm光刻機 富士康微信公众号发布，11月26日上午，富士康半导体高端封测项目投产仪式在青岛西海岸新区举行。 伴随着首条晶圆级封装测试生产线顺利启动，项目正式进入生产运营阶段。 此项目于2020年4月正式签约，7月开工建设，12月主体封顶。 光刻机（Mask Aligner），是用光来制作一个图形，具体操作大概是——在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上，即将器件或电路结构临时“复制”到硅片上。
上海微电子装备 (集团)股份有限公司 (简称 SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。 公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD 面板、MEMS、LED、Power Devices 等制造领域。 IT之家了解到，上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。 公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
上海微電子28nm光刻機: 上海微電子小躍進 新一代「先進封裝光刻機」交付
目前對於國產光刻機的研發，我們已經加快瞭腳步，目前已經取得瞭眾多的技術突破，目前由華卓精研發的光刻機雙工件臺技術，已經被上海微電子運用於國產光刻機的研發當中瞭，上海微電子在整機集成技術上，也已經取得瞭非常不錯的成績。 即使ASML已经明确态度表示可以向中国企业供货光刻机，但光刻机却迟迟未到货，这可能与美国总统拜登于11月9日延长的一项禁令有关。 直到一个名不见经传的小公司ASML横空出世，与研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术的台积电鬼才林本坚合作，共同研发出第一台浸润式微影机，宣告了过往干式光刻机时代的过去，光刻机领域迎来了下一个时代——EUV时代。 SMEE高度重视员工的职业发展,设置了专业技术系列、系统工程系列、业务管理系列等三类职业发展通道，员工可结合自己的职业规划选取合适的职业发展通道，实现自身职业成长与公司持续发展的双赢。
同時預計 2020 年隨著半導體產線得到持續擴產，光刻機需求也將進一步加大。 在經歷了中興事件之後，深深讓國人感受到了中國在半導體晶片領域的薄弱，而此次美國升級對華為的制裁，更是讓國人認識到了中國在晶片製造設備領域的薄弱。 大联大品佳集团推出基于Infineon 上海微電子28nm光刻機 iMotion产品的冰箱压缩机方案大联大控股宣布，其旗下品佳推出基于英飞凌（Infineon）IMC101T的冰箱压缩机方案。
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ASML总裁兼首席执行官Peter 上海微電子28nm光刻機 Wennink表示：“虽然每个细分市场的需求动态存在分化，但我们整体的客户需求依然强劲。 顯然，對於上海微電子來說，其28nm光刻機的順利推出，將打破國外廠商的對於IC前端光刻機市場的壟斷，可覆蓋更為廣闊的市場需求，特別是在國產替代趨勢之下，將有望大幅提升其光刻機的出貨量、營收和利潤率。 同時，也將幫助中國的晶圓代工廠降低對於國外半導體設備的依賴，進一步提升半導體製造關鍵設備的國產化率，提升中國半導體產業鏈的整體實力。 ASML、Canon 以及Nikon 是全球光刻機市場的主要供應商，其中 ASML 在高端市場一家獨大並且壟斷 EUV 光刻機。
- 2017 年 ASML 上述三种机型出货量总计为101 台，市场份额占比为 78.29%，到 2018 年 ASML 出货量增长到 120台，市场份额约 90% 。
- 在突破光刻機技術上被賦予重任、並受到業界關注的「上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）」（以下簡稱上海微電子）於7日舉行新一代2.5D/3D先進封裝光刻機發運儀式，這標誌著大陸首台2.5D/3D先進封裝光刻機正式交付客戶，具體由哪家客戶購買暫無訊息。
- （1）无掩模光刻机可分为电子束直写光刻机、离子束直写光刻机、激光直写光刻机。
從光刻機總體出貨量來看（含非 IC 前道光刻機），目前全球光刻機出貨量 99%集中在 ASML、Nikon 和Canon 。 其中ASML份額最高，達到67.3%，且壟斷了高端 EUV 光刻機市場。 特别是高端一点的光刻机,比如193nm ArF浸润式光刻机,可用于14nm,就只能从ASML进口。 至于通够用于7nm及以下工艺的EUV光刻机,只有ASML能生产,并不能卖给中国大陆厂商。 上海微电子说是攻克了28nm光刻机，可迟迟不见量产，急需的芯片自然也没造出来过，中国企业等不起。
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而且在实际应用里，28nm光刻机并不是仅能用来生产28nm芯片，经多重曝光后可生产14nm/10nm/7nm芯片，这与主流芯片的差距并不算大。 因此，如果上海微电子可以推出可用于28nm工艺的光刻机，对国内半导体产业来说也具有重大意义。 但这种快速的增长当中还是有一些隐忧，中芯国际也表示，由于采购美国相关产品和技术时受到限制，今年下半年依然面临不确定风险。 而且从技术节点上来看，40nm及以上制程是主要的收入来源，28nm和14nm工艺占收入的比重不足7%。 打造和完善国产芯片产业链，突破高端芯片领域“卡脖子”的难题，对中芯国际等国内半导体企业的持续稳定发展，仍然十分关键。 “OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。
目前光刻机主要可以分为 IC 前道制造光刻机（市场主流）、IC 后道先进封装光刻机、LED/MEMS/Power Devices 上海微電子28nm光刻機 制造用光刻机以及面板光刻机。 根据此前资料显示，11月26日上午，富士康半导体高端封测项目投产仪式在青岛西海岸新区举行。 IT之家報導，有消息稱這所半導體封測廠所用的光刻機設備採用上海微電子28nm光刻機，國產光刻機將從此前的 90nm一舉突破到28nm製程，同時對於降低境外市場依賴有重要意義。
上海微電子28nm光刻機: 上海微电子28纳米和14纳米光刻机新进展，令人振奋
三坐标测量机产品是集光、机、电、算一体化的多功能精密计量仪器，是现代几何计量领域的检测潮流。 新天光电作为国内首批研发制造三坐标产品的企业，早在1984年12月就制造出国内第一台JS05三坐标测量机，该产品通过了国家部级认证鉴定，荣获1985年机械工业部科技部科技成果三等奖。 现在，新天光电为了满足不同的市场需求，推出了CLASSIC系列、MAGI系列三坐标测量机。 并分别配备了手动版和自动版，以便客户结合实际需求自由选择。 其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。
上海微電子28nm光刻機: 強化掌控 中國大陸政府取得阿里巴巴2子公司特殊股
搜索该网站关于SMEE的历史信息，可以看到，早在去年10月，verdict就曾报道称，“中国首台国产28nm光刻机预计2021年底前交付”，但是verdict并未说明具体的信息来源。 光刻是晶片製造的核心環節，也是研發難度最大的半導體設備。 Peter Wennink在作上述表述同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟製程的光刻機出口並不受限制。
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500系列面向IC后道先进封装，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。 实现物联网部署可扩展性时的主要问题为什么三分之二的物联网项目都失败了？ 许多人低估了物联网的复杂性，以及使系统可视化来实现可扩展性的重要。 了解机器感知：激光雷达、3D视觉和地理空间AI随着人工智能和物理世界的交叉，以及自主技术采用的增加，有人可能会提出质疑，机器及其目前脆弱的模型如何能以人类的方式感知世界。
上海微電子28nm光刻機: 技术学院
在浸液系统方面，主要由浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责，2018年底，浙江启尔机电总投资5亿元的“光刻机浸液系统产品研制与中试基地”在杭州青山湖封顶，该项目主要研究光刻机浸液系统，目前已经完成建设。 正如前面所提到的，光刻机涉及到非常多的零部件，其中上海微电子主要是负责系统集成工作，更多的核心零部件则都是由其他的国产供应商来供应。 只要其中一个核心部件没有搞定，那么“28nm光刻机”就难以成功。 但是，由于《瓦森纳协定》的限制，上海微电子很难从国外进口用于生产高端光刻机的部件，因此在核心器件上只能依靠国产供应商。 但是，造光刻机并不是一件简单的事情，系统集成只是一方面，更为关键的是，其中需要用到非常多的关键器件，而这并不是一家或几家厂商就能搞定的。
據上海微電子官微介紹，先進封裝光刻機是公司目前的主打產品，且已實現量產供應，目前在大陸國內封裝光刻機市占率達80%，海外市佔率達40%。 宝马要做太阳能汽车，大众入局氢能源，车企分开走不同新能在目前的汽车市场中，新能源汽车已成大势所趋，虽然目前以电动汽车和混动汽车为主流，但受电池技术的限制，消费者仍期待更长的续航，更环保的能源也成了厂商关注的焦点，因此氢能源汽车和太阳能汽车也开始走入风口。 换而言之，此前业界担心的“美国施压荷兰政府，将对华禁售的阿斯麦光刻机从最先进的极紫外光刻机（EUV）扩展至相对成熟的DUV（ArFi）深紫外光刻机（DUV）”，可以暂时解除了。 此外，芯智訊也並未在網上找到相關證據，支援這個11nm光刻機將於年底下線的說法。