令人振奮的是，中科院、清北高校等科研機構紛紛挺身而出，將光刻技術攻關列入緊急任務清單；承擔重任的上海微電子、以及號稱「光刻機第一股」的華卓精科也均加大了研發投入。 隨著容器的興起和迅速發展，Kubernetes（K8s）應運而生，現在不僅京東、阿里、谷歌、百度等大公司在使用，就連中小型企業也開始把業務遷移到了k8s上。 K8s在如下圖的領域中佔據了重要的地位，數萬的企業和用戶都選擇使用K8s。 上海微電子光刻機 目前，全球光刻機市場競爭格局中，阿斯麥以75.3%的市場份額佔據絕對的優勢，而佳能、尼康兩家企業分别以11.3%及6.2%位列第二、第三名。
而阿斯麥借勢而起，開發出全球首款EUV光刻機，全球光刻機寡頭地位就此形成。 上海微電子光刻機 圖為：EUV光刻機工作場景圖 圖源：網絡通俗點講，從目前技術工藝角度來看，誰能將波長控制得越短並實現效能最大化，誰的技術優勢愈發明顯。 這也是光刻機巨頭之間較量決定成敗及市場佔有率的重要籌碼，亦是後來者能否實現「拐彎超車」或提升市場競爭力及話語權的關鍵。
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三星加碼晶圓廠投入，年內將在P4和德州工廠建設試產線。 據韓媒TheElec報導，三星計劃年底前在韓國平澤的P4工廠以及美國得州泰勒工廠建設新的試產線。 在這中間的每一項技術背後牽扯到的零件都是許多巨頭的存在，有各自完整的生產體系，所以想要在如此多的困境中走出一條新的道路真的太難太難了。 此次崑山同興達購買的光刻機有兩台，價格在1800萬元左右，並且類型為金凸塊封測光刻機，相比以前的技術提高了延展性等。
按照銷售額來計算的話，因為最昂貴的 EUV 只有 ASML 製造銷售，所以總的市佔率依次是91%、3%、6%。 所以目前無論是 Nikon 還是佳能都無法對 ASML 構成威脅。 ASML 的光源來自於美國Cymer，光學模組來自德國蔡司，計量設備來自美國，但屬於德國科技，它的傳送帶則來自荷蘭VDL集團。
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崑山興達公司一直從事的就是LCD、光學攝像頭等半導體封測的相關業務，在2022年前三季度的時候，公司營收在60億元以上，但是公司的整體業務處於虧損的狀態。 Nikon 作為九十年代最大的曝光機巨頭，它的衰落，說來也充滿偶然，始於那一回157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法的技術之爭。 短短幾年，Nikon 就將昔日曝光機大國美國拉下馬，與舊王者 GCA 平起平坐，拿下三成市場市佔率。 曝光機的原理其實像幻燈機一樣簡單，就是把光透過帶電路圖的掩膜（Mask，後來也叫光罩）投影到塗有光敏膠的晶圓上。
- 目前，無論是汽車晶片，手機晶片還是其他領域，包括軍用，航空太空等應用的晶片都離不開曝光機。
- 雖然上海微電子的這台國產光刻機只是用於封測，而並非用於芯片製造環節，但這並不能抹掉其帶來的重大轉折意義。
- 隨著外部環境的逐步改善，外資開始進入我國市場，“造不如買 ”的思想盛行，“買辦 ”成風，“貿工技”之風一時盛行，導致需要大量投資的光刻機的發展被邊緣化了。
- 從目前 Nikon 的官網上可以看到 Nikon 最先進的曝光機型號為 NSR-S635E。
- 华卓精科的招股书显示，华卓精科还对双工件台技术进一步进行纵向延伸，突破了当前业内先进的六自由度磁浮微动台技术，实现了对微动台高阶柔性模态的抑制，使其运动精度优于2nm，大大提高了双工件台的分辨率。
- 這並非是無稽之談，因為我們注意到，光刻機制造商佳能近日表示，受益於光刻機業務，其業績同比大漲了20%。
事實上，ASML光刻機需要5萬個零件，大部分需要從國外進口，其中又有一大大部分來自美國、日本、德國等技術。 只生產一種名為“EUV”的光刻機的ASML公司，幾乎壟斷了全球80%以上的晶片製造業務。 因為ASML背後有歐美資本，臺積電、英特爾、三星都是ASML的客戶，也是ASML的股東。 據中國媒體PingWest品玩2月7日報道，2021年9月18日，上海微電子舉行的新產品發布會上，宣佈推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。 上海微電子曾表示，當時已與多家客户達成新一代先進封裝光刻機銷售協議，首台將於年內交付。 总的来说，就已有的信息来看，国产“28nm光刻机”几大关键的部件的似乎并未完全搞定，也没有全部通过02专项的验收，所以作为主要负责“28nm光刻机”系统总成的上海微电子自然也难以在今年年底实现“28nm光刻机”项目验收和交付。
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美國一直在遊說其合作夥伴，包括日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。 彭博社不久前報導，荷蘭政府有意對半導體製造設備出口至中國祭出新的管制。 縱觀全球芯片製造企業，台積電無疑是技術最先進、經驗最豐富的那一個，而造成這種情況出現的主要原因，就是台積電擁有超過80台EUV光刻機，這一優勢也是三星和英特爾不能比擬的。 中國的芯片設備當中，技術最先進的當屬刻蝕機，刻蝕機已達到5納米，由於國產刻蝕機的技術水平已達到全球先進水平，而價格又非常實惠，連台積電都忍不住採購了國產的刻蝕機，可見國產芯片設備的競爭力。 國產光刻機的交付，意味著國產光刻機開始加速替代進口光刻機，這對於ASML來說將是巨大的壓力，因為中國是全球最大的市場，2022年Q1和2021年中國就為ASML貢獻了三分之一的收入，可見中國市場規模之大。
总结来说，光刻机可以算是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，其中包括上万种精密零部件，而且结合了光学、流体力学、表面物理与化学、精密仪器、自动化、高分子物理与化学、软件、机械、图像识别等多个领域的尖端知识。 可以说，全世界没有一家企业，甚至可以说没有一个国家可以独立完成高精密半导体前道光刻机的完整制造。 而在今年的6月，网上又再度传出上海微电子的“28nm光刻机”将在2021年年底交付的传闻。 可惜，截至到目前为止，仍未有确凿的消息显示，上海微电子的“28nm光刻机”能够在年底交付。
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在這幾大半導體設備市場中，絕大數領先的技術工藝被國外大廠掌握。 譬如，爐式設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備市場中AMAT、TEL、LAM等國際大廠市場份額佔據過半，而國内能跟上步伐的僅有北方華創（爐式設備、刻蝕設備）跟沈陽拓荊（薄膜沉積設備）。 目前，整個信息產業如同倒金字塔形，底部每年約600億美元產值的半導體集成電路設備產業，支撐了每年超5,000億美元產值的半導體芯片產業和幾萬億美元的電子係統產業，最終支撐了幾十萬億美元的軟件、網絡、電商及大數據等信息產業。 上海微電子光刻機 2022年7月7日，上海微电子装备举行了首台2.5D/3D先进封装光刻机的交付仪式，但该机器是用于芯片下游制造的先进封装光刻机，并非此前关注的用于芯片上游制造的光刻机。 现今，上海微电子装备生产的先进封装光刻机在中国大陆的市占率达80%，海外市佔率达40%。 EUV光刻機的重要性那是不言而喻的，但是很可惜，在這個領域中，基本上都被阿斯麥爾把控和壟斷，讓我國在很長一段時間裡面只能望機興嘆。
上海微電子雖然在28nm的光刻機製作上沒有在預期內成功交付，不過同時研發的封測光刻機卻實現了技術突破，在封測光刻機交付之後預計在3月完成調試，到5月完成測試量產，預計到明年將可以完成每個月2萬片芯片的產量。 另一邊，相比一步步內建了全球製造業精華的 ASML，早年間就習慣單打獨鬥的 Nikon 在遭遇美國封鎖後，更是一步步落後，先進設備技術跟不上且不提，就連落後設備的製造效率也遲遲提不上來。 而佳能在曝光機領域一直沒有爭過老大，當年它的數位相機稱霸世界，利潤很高，但是對一年銷量只有上百台的曝光機根本沒有給予重視。
上海微電子光刻機: 美國制裁不斷加碼 中芯可以險中求存？
目前，上海微電子擁有一支1000多人的優秀人才隊伍，佔據了國內80%以上的市場份額，對中國半導體產業的發展起到了重要作用。 可以說誰在晶片領域取得了突破，誰就有了在世界範圍內“說話”的資格。 可是世界上能夠製造光刻機的廠家屈指可數，值得一提的是，荷蘭的ASML公司幾乎壟斷了世界頂級光刻機市場，也是全球唯一可以生產EUV極紫外線光刻機的廠商。 中國集成電路技術發展到現在，已經有了一定的成績，也逐漸成為了世界上重要的國家。 美國看到自己的科技落後，就開始實施芯片計劃，這一計劃已經持續了很長一段時間，但是在中國強大的技術支持下，美國並沒有取得預期的效果。
而在众多的半导体设备当中，光刻机可谓是最为关键的设备。 但是，造光刻机并不是一件简单的事情，系统集成只是一方面，更为关键的是，其中需要用到非常多的关键器件，而这并不是一家或几家厂商就能搞定的。 在中美科技战、贸易战的背景之下，中国半导体产业被美国“卡住了脖子”，而这其中最为关键的一环就是半导体设备，华为就是因为台积电、中芯国际等晶圆代工厂被美国禁止利用基于美国技术的半导体设备为华为代工，直接导致了华为自研芯片的断供。 目前上海微电子的光刻机已可以应用于集成电路产业链中晶圆制造、封装测试，以及平板显示、高亮度 LED 等领域。 资料显示，上海微电子直接持有各类专利及专利申请超过2400项。
上海微電子光刻機: 首部國產高精尖封裝光刻機落地 荷蘭ASML緊急佈局
从以下公式可以看到，光刻分辨率（R）主要由三个因数决定，分别是光的波长（λ）、镜头半孔径角的正弦值（sinθ）、折射率（n）以及系数k1有关。 本報記者袁元近年來，隨著大規模訓練數據和先進機器學習、深度學習算法的發展，三維目標檢測的整體性能有了巨大的提高，三維目標檢測也廣泛應用於重建建築物的建築模型、自動駕駛、人臉檢測、歷史遺址保留、虛擬現實遊戲等行業。 上海微電子光刻機 的技術高度，儘管價格比ASML便宜一半，卻不能撼動AMSL的龍頭地位。 投影式曝光光刻機又進一步分為：掃描進步投影式、步進重複投影式和掃描投影式。 搜索该网站关于SMEE的历史信息，可以看到，早在去年10月，verdict就曾报道称，“中国首台国产28nm光刻机预计2021年底前交付”。
由於美方的技術出口限制，高階製程的晶片與設備都禁止向大陸出口，但中階晶片也因疫情而出現短缺現象。 大陸電子資訊專家表示，大陸將不再一味追求高階製程，將採用退回策略，以28奈米奈米晶片為國產新起點，用成熟工藝滿足一般性晶片的需要。 光刻機是芯片製造產線上最核心的設備，全球能夠獨自生產的只有四家企業，分別是荷蘭的ASML、中國的上海微電子，以及日本的尼康、佳能。 但是，在中高端光刻領域，比如DUV、EUV光刻機，ASML則是獨一檔的存在，幾乎壟斷了市場。 無可否認，近十年時間里，中國經濟高速增長無不讓全世界其他國際為之驚歎的，甚至在個别領域也實現了「拐彎超車」，遠超部分歐洲國家。 但是，因為中國進入高質量發展時間短的緣故，在一些高科技緊密領域還與發達國家仍存在一定差距，還需要很長的時間「補課」。
上海微電子光刻機: 我們有國產光刻機嗎？
其實應該是不會的，2022年4月20日，阿斯麥爾公開表示，就目前而言，並沒有任何跡象表示晶片的需求會放緩，預計今年和明年的晶片產能仍將嚴重短缺。 從中可以看出，如今阿斯麥爾在全球市場的發展態勢其實並不樂觀，如今我國在EUV光刻機領域進一步實現了破冰，到時候未必就不會成為阿斯麥爾的競爭壓力和發展阻力，不利於阿斯麥爾的發展個進步。 到時候，阿斯麥爾的EUV光刻機將不會再這樣重要，到時候，阿斯麥爾還是很有可能會流失我國這個具有龐大發展潛力的市場，影響阿斯麥爾的經濟收益。 而上面我們也提到了，上海微電子已經具備了ARF光刻機的量產能力，所以從佳能的業績大幅增長就可以看出，上海微電子的65奈米光刻機”破冰“也就在情理之中。
根据亚化咨询数据显示，2020年所公开的招中标信息中，上海微电子已共计中标2台半导体用光刻机，将分别供应给上海积塔半导体和中芯绍兴。 需要的設備也很多：容器，晶圓刻蝕設備，化學整齊沉積設備，晶圓清潔設備，晶圓檢查設備，。 該技術至今已經沿用30多年，普遍用於≤0.18μm工藝。 掩膜板只有6英寸，曝光比例為四比一，曝光區域僅為26×33mm。
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市場分析機構Yole的統計數據顯示，2020年先進封裝用光刻設備市場達到10億美元，從2020年到2026年，封裝用光刻設備市場將以平均每年9%的速度增長至17億美元。 而在2020年，整個光刻機的市場空間約爲135億美元。 方證證券指出，由於IC前道光刻機技術最爲複雜、難度最大，因此需求量和價值量在所有光刻機中都是最高的，中國目前與荷蘭阿斯麥等國外先進水平存在不小差距。 現場圖片顯示，新核芯科技進場的首臺封裝光刻機確實由上海微電子生產，但設備總數和具體技術細節並未披露。 2020年7月，新核芯科技封測項目開工建設，12月項目主體完成封頂，並開始內部裝修；2021年7月舉行了裝機儀式，並開始按裝調試設備，12月實現量產；從開工到量產僅用了17個月的時間，創造了同行業的建廠奇蹟。