在这场以年为单位的追赶中，我们不必以一时得失论成败，更不必因暂时的成败论英雄。 对于正处于国家上升期的我们来说，只要做好每个人分内的事情，时间就注定是我们最大盟友。 该芯片以128核于600亿晶体管规模，成为了迄今为止集成晶体管数量最多的量产芯片。 ，所谓的“拿来主义”，就是暂时将“自主”的要求放宽，不再以百分百排除非美国技术设为先决条件，而讲究在可以利用外国技术的时期，尽量基于可获得技术去取得进展。
- 據公開的資訊，當今的半導體行業中，先進制程5奈米、3奈米的芯片必須使用最先進的EUV，才能進行大規模生產；而7奈米以上的14奈米、28奈米等可以用DUV製造的芯片，則被大量用於通信、汽車、電器、工業生產等眾多領域。
- 此外，90nm光刻机经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm的水平。
- 《中國經濟日報》報導，中芯國際增加採購 ASML 的 DUV 設備，以提高利用 DUV 曝光設備生產半導體的技術競爭力。
- 由此，网上出现“今年搞定28nm光刻机的目标已经失败了，上海微电子没有通过02专项的国家验收”的消息也不难理解。
- 其次，如果按照tsmc的标准，用nxt 1980 or nxt 2000型号搞的7nm制程，那SMEE也是不可能达到的。
- 早在2002年，光刻机就被列入国家863重大科技攻关计划，上海微电子装备有限公司也由此成立。
作为世界唯一能生产EUV的荷兰阿斯麦（ASML），穿透股权结构显示，一大股东是美国资金研究与管理公司，拥有15.81%的股份；第二大股东是美国黑岩集团，拥有7.95%的股份。 正因如此，美国才牢牢卡住了我们的脖子，至今我国没有一台EUV光刻机。 截止到2021年，荷兰阿斯麦（ASML）一共才生产了142台EUV光刻机，其中台积电却已经安装了超80台EUV光刻机。 作为先进制程芯片“命脉”的EUV光刻机如今“一机难求”。 IC Knowledge数据显示，2022—2024年先进制程市场对于EUV光刻工具的需求量会持续增多，但ASML的产能严重不足，预计2022年、2023年、2024年的设备缺口分别为18、12、20台。
上海微電子 duv: 国产光刻机研发进度
毕竟，国内已经开始建设光源技术制造生产基地，光源技术等进行批量生产制造，自然也意味着国内先进光刻机批量生产制造也不远了。 据了解，上海积塔向ASML购买的光刻机，并非先进的DUV光刻机或者EUV光刻机，而是上海微电子也能够生产制造的ArF、KrF、i-line系列光源光刻机。 当然，要想在光刻机技术方面实现突破，除了厂商自身加大投资研外，还需要供应链以及上下游市场的支持。
但是，到了2020年年底，上海微电子的28nm光刻机并未入传闻那样实现交付。 消息称，上海微电子有望今年下线最新一代光刻机，其能够用于生产制造10nm以上的芯片，类似ASML的DUV光刻机，都是采用深紫外光源。 上海微電子 duv 上海微電子 duv 可以说，在成熟芯片市场，上海微电子的光刻机等设备占了很大一部分市场，尤其是国内，而在先进光刻机方面，上海微电子也在全面突破。 趁着这几年中国大规模芯片扩产之际，ASML加速交付中国市场DUV光刻机，待中国国产光刻机进入市场时，市场空间还有多少？
上海微電子 duv: 光刻机能进口了！全球最大制造商ASML回应，卖给中国DUV光刻机无需美国许可
另外，在半导体光刻过程中，除了光刻分辨率之外，焦深（DOF）也至关重要，大的焦深可以增大刻蚀的清晰范围，提高光刻的质量。 但目前中國大陸的晶片代工廠受限於美國的技術禁運，無法曏ASML的極紫外 光刻機下訂單。 然而，随着中美大国竞争帷幕的拉开，我们所面临的，正是这样一种“中国vs外国”——中国必须与美国外加其一切发达国家盟友进行竞争。 上世纪90年代，由于特别的政治环境，国内相关产业转为完全依赖美国供应，导致自主研发团队濒临解散。 近年来，随着外部环境的变化，引来了资本的瞩目，开始重新组织团队开发EDA软件，例如华大九天。 谈到这里，就不得不说一下在芯片自主方面，除光刻机外的另一个重大短板：EDA（Electronic Design Automation）软件问题。
然而，日前有知名半導體研究顧問向媒體透露，有中芯國際的工程師自曝，中國目前並未能製造出功能良好的DUV曝光機，其用DUV製造的 7奈米芯片成本高且良率非常低，很容易被投訴。 三、东方明珠（600637）：东方明珠–上海市信息投资股份有限公司（21.33%）–上海泰力产业投资管理有限公司（95%）–上海微电子装备（集团）股份有限公司（8.12%）。 但需要指出的是，該公司這次交付的是用於IC下游製造的「先進封裝光刻機」，並非外界熱議被卡脖子的IC上游製造的「光刻機」。 同时，ASML并购了美国Cymer、HMI等公司，增强了在光刻、光源、电子束检测等方面的技术储备。 至此，美国已在技术和资本层面渗入ASML，并逐步掌控ASML EUV光刻机的产能和发展方向。 美国政府担心尖端技术落入外国公司，所以反对尼康的加入，而ASML做出在美国建立工厂和研发基地等多项让步后才成功加入EUV联盟。
上海微電子 duv: 目前芯片上有上亿个晶体管，是否到达极限了？
2021全年，ASML实现净销售额186亿欧元，毛利率达到52.7%，净利润达59亿欧元。 詹凯表示，BIS之前已将73个中国实体列入“未经核实清单”。 若BIS能够对被列入清单的外国实体完成核查，从而核实该等外国实体的“善意”，BIS将做出决定并将该等外国实体从清单中移除。 例如，2019年6月27日BIS将8个位于中国大陆的外国实体从未经核实清单中移除。 既然已經找到瞭阻礙國內半導體發展的原因，自然我們要想盡辦法去解決瞭，目前國傢也在聯合各大企業，共同去打造一條完全自主化的供應鏈，而光刻機作為首要攻克的目標，目前中科院也已經開始介入技術研發，各大高校研究所也已經行動瞭起來。 自由財經認為，Patel日前透露的情況「等於打臉之前傳出中國上海微電子即將量產28奈米 DUV的訊息」。
SSB500 系列步进投影光刻机不仅适用于晶圆级封装的重新布线（RDL）以及 Flip Chip 工艺中常用的金凸块、焊料凸块、铜柱等先进封装光刻工艺，还可以通过选配背面对准模块，满足 MEMS 和 2.5D/3D 封装的 TSV 光刻工艺需求。 “OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。 计算光刻OPC原理图 2005年，从上海回到学校之后，刘世元在摸索中逐渐找准了自己的学术定位：面向IC制造需求，立足先进光刻与纳米测量基础理论及学术前沿开展研究。 中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。 而芯片良品率取决于晶圆厂整体水平，但加工精度完全取决于核心设备，即“光刻机”。 光刻机生产商中，荷兰阿斯麦公司工艺最强大，但是产量不高高，无论是台积电、三星，还是英特尔，谁先买到阿斯麦的光刻机，谁就能率先具备7nm工艺。
上海微電子 duv: 半导体材料行业研究报告
而作为对比，台积电南京厂的28nm产线在扩产后，月产能是4万片。 作为先进制程门槛的14nm，由于良品率的问题尚未得到根本性突破，所以截止2020年末，月产能一直徘徊在2000～3000片之间。 而“02专项”的根本目的，就是立足于28nm这个不上不下的节点，实现28nm以及以下制程的完全自主化。 例如近年来接连告捷的中国大火箭、载人航天以及地外天体探测项目，汇总起来便是其中的载人航天与探月工程专项；国产大客机的C919项目乃至于预研中的C929项目，合并便是国产大型飞机专项。
- 搜索该网站关于SMEE的历史信息，可以看到，早在去年10月，verdict就曾报道称，“中国首台国产28nm光刻机预计2021年底前交付”，但是verdict并未说明具体的信息来源。
- 如果彭博社的最新报道属实的话，那么预计荷兰将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机（属于DUV光刻机）的出口，该设备对制造尖端芯片至关重要。
- 這4家工廠使用的便是DUV光刻機，今年還將引進其他設備。
- 由于大陆企业在该领域起步过晚，目前在许多方面仍磕磕绊绊。
- 谈到这里，就不得不说一下在芯片自主方面，除光刻机外的另一个重大短板：EDA（Electronic Design Automation）软件问题。
- 但是如果荷兰政府跟进美国新规，那么ASML将受较大影响。
）的光源波長短，約為15分之1，因此能使用於線距更小電路圖案的曝光上。 然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同，當採用13.5nm波長的極紫外光微影技術時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多塗層反射鏡(分散式布拉格反射器)的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。 這種多層膜EUV光罩一方面可維持光罩的反射率，但另一方面會影響臨界線寬、輪廓、刻線邊緣粗糙度、選擇性和缺陷控制方面，而造成獨特的蝕刻效果。
上海微電子 duv: 上海微电子年底前将推出28nm光刻机？
总结来说，光刻机可以算是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，其中包括上万种精密零部件，而且结合了光学、流体力学、表面物理与化学、精密仪器、自动化、高分子物理与化学、软件、机械、图像识别等多个领域的尖端知识。 可以说，全世界没有一家企业，甚至可以说没有一个国家可以独立完成高精密半导体前道光刻机的完整制造。 在目前的光刻机市场，ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商，占据了全球99%的市场。
浸没液体相比于传统气体介质具有较高粘度，粘性力的增强，使得压力驱动下浸没液体对投影物镜的作用力将变得越来越不可忽视。 作用在物镜表面的应力如果过大将使物镜产生变形和位移，并引起双折射与光路失真，如缺乏有效控制，将造成曝光成像的缺陷。 目前国内在NA1.35浸润式物镜系统的研发上进展如何尚不清楚。 因此ASML的善意，對大陸要建立完整半導體產業鏈，恐是短多長空。 光刻机突破的话，还是要看中科院以及一些其他科研机构，其次看这些科研企业，但是上海微电子本身是没啥指望了。
上海微電子 duv: 中國 EUV 封鎖有解？ASML 推 7 奈米製程 DUV
據公開的資訊，當今的半導體行業中，先進制程5奈米、3奈米的芯片必須使用最先進的EUV，才能進行大規模生產；而7奈米以上的14奈米、28奈米等可以用DUV製造的芯片，則被大量用於通信、汽車、電器、工業生產等眾多領域。 過去美國政府主要是限制中國企業獲得EUV，中國的企業就轉而大量購買囤積DUV，並致力於使用DUV來製造7奈米的芯片。 此外，工研院產業科技國際策略發展所研究總監楊瑞臨（Ray Yang） 也指出，中芯國際使用 DUV 製造 7奈米芯片的良率非常低，也不具成本優勢。 他表示，由於華為遭美國制裁而無法找外國代工廠，中國嚴重依賴中芯生產急需的芯片，但可能主要是用於「非商業性的特殊用途」。 而在准激光源方面，科益虹源主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器、侵没式193nm准分子激光器；福晶科技研发KBBF晶体(用于激光设备的上游关键零部件)；中科院研发40瓦干式准激光光源。
在市场恐惧时中国芯企业/产业资本该本文将讨论近期巴菲特在目前的金融市场环境中入手台积电，给企业资本和产业资本为整合资源和各地方政府建设半导体产业生态带来的启发。 西工大打破吉尼斯世界纪录，扑翼式无人机单次充电飞行15据西北工业大学官宣其扑翼式无人机单次充电飞行时间获得新的吉尼斯世界纪录，认定的纪录时间为 2 小时 34 分 38 秒 62（突破 154 分钟）。 本次刷新世界纪录的“云鸮”扑翼式无人机采用了高升力大推力柔性扑动翼设计、高效仿生驱动系统设计和微型飞控导航一体化集成等关键技术，翼展 1.82m，空载起飞重量为 1kg，手抛起飞，滑翔降落，能够按设定航线自主飞行，飞行过程中能实时变更航线。
上海微電子 duv: 強化掌控 中國大陸政府取得阿里巴巴2子公司特殊股
；另外，光学系统数值孔径需要变大，由原来90nm光刻机的NA 0.75提升到NA 1.35，这其中需要加入具有特别构造的镜片；运动平台速度也要更快。 上週在中國國際進口博覽會現場，半導體設備巨頭 ASML 展出可用於 上海微電子 duv 7 奈米以上先進製程的深紫外曝光機 DUV。 搜索该网站关于SMEE的历史信息，可以看到，早在去年10月，verdict就曾报道称，“中国首台国产28nm光刻机预计2021年底前交付”，但是verdict并未说明具体的信息来源。 不过对于“上海微电子到底能不能做出28nm能力的DUV光刻机”这个问题，外界看法不一。 此前知乎上就有人提了这个问题，有不少网友给出了不同意见。
也正是得益于23台光刻机的交付，中芯国际才宣称14nm工艺芯片实现量产。 上海微電子 duv 因为ArF系列光刻机可用于制造7nm-130nm制程的芯片，而且该制程范围内的芯片占芯片供应的60%多，所以ASML的市场份额快速提高，自2006年超越尼康成为全球光刻机龙头以后，其行业领导地位维持至今。 同时，由于核心浸没式技术主要来自台积电，所以美国在DUV领域不具备统治地位，ASML向中国出货DUV光刻机也无需得到美国授权。 温宁克还警告称，过度的管制措施可能导致芯片制造商的成本上升，因为美国要求从日本到荷兰的盟友帮助限制中国获得关键半导体技术的机会。
上海微電子 duv: 科技要闻
计划由国家力量来主导，以2020年为节点，推进被归纳为十六个大项的重大战略产品、关键共性技术和重大工程系列。 了解机器感知：激光雷达、3D视觉和地理空间AI随着人工智能和物理世界的交叉，以及自主技术采用的增加，有人可能会提出质疑，机器及其目前脆弱的模型如何能以人类的方式感知世界。 借助于诸如激光雷达、雷达和摄像头等自动驾驶汽车上所使用的传感器技术，机器已开始能收集实时数据来为决策提供信息，并适应现实世界的场景。 Codasip宣布成立Codasip实验室，以加速行业前沿技术的开Codasip今日宣布成立Codasip实验室（Codasip Labs）。 作为公司内部创新中心，新的Codasip实验室将支持关键应用领域中创新技术的开发和商业应用，覆盖了安全、功能安全（FuSa）和人工智能/机器学习（AI/ML）等方向。 除了上海微电子，中国电科和长春光机所也接到研发光刻机的任务。
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2021年一季度向中国市场交付11台光刻机，而且就在2021年一季度，中芯国际还与ASML续签了超过12亿美元的光刻机大单。 2021全年，ASML向中国市场的光刻机交付大概也在四、五十台。 而上海微電子率先推出封裝光刻機，也是為瞭順應市場的需求，此前就算是封裝測試的光刻機，我們都要從海外高價購入二手設備，這也導致瞭產能以及相關性能上有所落後，國產的光刻機在正式面世之後，可以很好的幫助到自主化供應鏈解決封裝測試的問題。 面對光刻機遲遲不能發貨，我們也隻剩下一條路可以走，那就是走技術自主研發的道路，面對歐美國傢的技術限制，導致瞭華為的麒麟芯片停產，中芯國際訂購的EUV光刻機，至今也沒有傳出任何出貨的消息，這也直接阻礙瞭國內先進制程工藝的發展。
上海微電子 duv: 中国集成电路产业发展长期落后原因分析
该项目研发成功后将推动国产光刻机一举超越Nikon和Canon的光刻机，成为全球光刻机生产企业第二名。 此前的资料显示，该光刻机的光源激光系统、浸没式双工作台、浸液系统、透镜及曝光系统都已实现了国产化（由不国内相关供应商提供），上海微电子则负责控制系统和总装。 另外值得注意的是，自去年华为被美国实施第二轮制裁，使得华为自研芯片无法制造之后，业内就一直有传闻称华为在自建半导体产线，并已开始研发半导体产线所必须的关键设备——光刻机。
上海微電子 duv: 交付新一代产品后，上海微电子被列“未经核实清单”
现在中科院、上海光机所和长春国科精密一起合作研发，进度未知。 据中国方正证券的一份研究报告披露，“在02专项光刻机项目二期中，设定的时间为2020年12月验收193纳米ArF浸入式DUV光刻机，其制程工艺为28纳米”，即网络上流传的28纳米光刻机（这个说法当然不准确）。 不过ASML 目前依然无法将 EUV 光刻机运送给其中国客户，现在也无法将它们运送到中国，因为他们使用的是在美国设计和生产的 Cymer 上海微電子 duv 光源。 有消息显示，2019年底，华卓精科的浸没式光刻机双工件机台已经刚通过了02专项的CDR里程碑评审，研发和试产基地也完成了建设。 正如前面所提到的，光刻机涉及到非常多的零部件，其中上海微电子主要是负责系统集成工作，更多的核心零部件则都是由其他的国产供应商来供应。
上海微電子 duv: 採購 EUV 已無望，中國半導體企業擴大採購 DUV 提升成熟製程
有意思的是，2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功(核心部件进口)，2010年美帝允许90nm以上设备销售给中国。 2003年上海交通大学微电子学院院长陈进教授从美国买回芯片，磨掉原有标记，作为自主研发成果，骗取无数资金和荣誉，消耗大量社会资源，影响之恶劣可谓空前！ 早在2020年就有消息称上海微电子的国产DUV光刻机SSA800即将在2021年下线，后来又有传闻上海某地政府称将在2022年交付。 上海微電子 duv 此外，还有外媒称上海微电子将会推出一台28nm工艺DUV国产光刻机：“中国国产28nm DUV光刻机计划在今年年底前从上海微电子（SMEE）生产出来。 ” 最后还提到这台光刻机设备不仅仅可以生产28nm工艺芯片，同时还可以生产制造20nm工艺得到5G芯片。